Объект исследования: тонкие пленки оксидов металлов (олово, цинк), осажденные ионно-лучевым и магнетронным распылением на подложки из различных материалов. Определены режимы роста и отжига, роль газовой атмосферы при отжиге, влияние технологических режимов формирования пленок на их оптические, электрические и структурные свойства. Отработаны технологические режимы гетеропереходов CdS/CdTe.
