Были исследованы вольтамперные характеристики электронного пучка. Установлено, что потенциал мишени сильно влияет на плазменные параметры. Было определено три плазменных состояния, возникающих при взаимодействии электронного пучка с газом и генерируемой плазмой при плавном изменении давления рабочего газа в разрядной камере.Были исследованы изменения морфологии, микроструктуры и эрозии поверхности вольфрама при воздействии гелиевой плазмы в зависимости от температуры мишени и флюенса ионов. Были исследованы изменения морфологии, микроструктуры и эрозии поверхности вольфрама при воздействии гелиевой плазмы в зависимости от температуры мишени и флюенса ионов. При изучениях микроструктуры поверхность образца подвергалась химическому травлению в среде азотно-плавиковой кислоты в течение 60 секунд. Образцы вольфрама в исходном состоянии имеют мелкозернистую структуру с четко выделенными границами. После облучения гелиевой плазмой поверхности образцов имеются поры и включения. Была изучена тонкая структура образцов вольфрама до и после облучения гелиевой плазмой. Была определена плотность дислокаций, выявлены источники внутренних полей напряжения, определены амплитуды кривизны-кручения кристаллической решетки в образцах вольфрама, подвергнутых облучению гелиевой плазмой при разных режимах. Были установлены количественные закономерности, характеризующие эволюцию дислокационных структур, субструктурных превращений в вольфраме в зависимости от флюенса ионов.