Объект исследования: вольфрам - один из наиболее перспективных материалов для защиты первой стенки ТЯР. Экспериментально установлено, что облучение альфа-частицами с энергией 45 кэВ при температуре 200{о}С приводит к формированию на поверхности наполненных гелием пузырьков, шелушению и разупрочнению. Исследована эволюция структуры поверхности при вакуумном отжиге. Показано, что при температуре 800{о}С имплантированный гелием слой вольфрама отслаивается. Определены температурные интервалы пиков выхода гелия и их энергии активации. Решены кинетические уравнения.