Исследование свойств низкотемпературной комплексной плазмы в целях разработки метода манипуляции частицами микро и нано размеров
Full Name of the work head: Лаврищев О.А.
Исполнители проекта: Коданова С.К., Рамазанов Т.С., Досболаев М.К., Бастыкова Н.Х., Молдабеков Ж.А., Утегенов А.
: Научно-исследовательский институт экспериментальной и теоретической физики при КазНУ им. аль-Фараби
Inventory number: 0216РК01012
Registration number: 0115РК01043
Keywords: Комплексная плазма*Высокочастотный разряд
Предложена численная модель описания свойств комплексной плазмы высокочастотного емкостного разряда под влиянием дополнительного постоянного электрического поля. Получены пространственно-временные распределения параметров (плотность электронов и ионов, температура электронов, ток электронов, скорость нагрева электронов и ионов и др.) комплексной плазмы. Проведено компьютерное моделирование пространственного положения пылевых частиц в зависимости от постоянного напряжения. Исследованы процессы рассеяния пылевых частиц с учетом их поляризации на основе эффективных потенциалов. Поляризация пылевых частиц в комплексной плазме в случае слабого взаимодействия приводит к появлению критического прицельного параметра, при котором налетающая пылинка рассеивается на малые углы, что снижает полное сечение их рассеяния. Модель показала, что управлять положением пылевых частиц в высокочастотном разряде возможно только при приложении отрицательного потенциала.