Фундаментальные основы электрохимических процессов при электроосаждении многокомпонентных полупроводников
Full Name of the work head: Журинов М.Ж.
Исполнители проекта: Дергачева М.Б.
: Институт топлива, катализа и электрохимии им. Д.В.Сокольского
Inventory number: 0216РК02147
Registration number: 0115РК02732
Keywords: вольтмперометрия*ионы меди*ионы индия*ионы галлия*кварцевая микрогравиметрия*электроосаждение*полупроводники
Рассмотрено влияние подложки на сдвиг потенциала осаждения металлов за счет процесса UPD. Установлена возможность подпотенциального соосаждения Ga с селеном на стеклоуглеродном электроде. Отмечена связь потенциалов восстановления пар металлов и образования определенных соединений с участием процесса UPD с термодинамическими свойствами соответствующих сплавов. Определены тип нуклеации и модель роста осадка кадмия на стеклоуглеродной подложке с помощью метода хроноамперометрии.
