Экспериментально установлено, что под действием термической обработки облученного низкоэнергетическими альфа-частицами вольфрама его поверхность разупрочняется на глубину, равную проективному пробегу альфа-частиц. Сравнительный анализ деградации структуры поверхности и физико-механических свойств при импульсном выделении энергии и облучении низкоэнергетическими альфа-частицами показывает, что имплантация гелия в приповерхностные слои приводит к большей степени деградации свойств вольфрама по сравнению с импульсным электронным облучением.