Было исследовано влияние на синтез графенов на никелевой подложке электрического потенциала разной величины и полярности при горении бензол-кислородного пламени при низком давлении. Рассмотрено влияние на синтез графенов режимов горения и времени экспозиции никелевой подложки в бутан-кислородном пламени с добавлением бензола при низком давлении. Отработана методика очистки слоев графенов от сопутствующих продуктов и методика отделения от подложки. Установлено, что синтез графенов при низком давлении в бензол-кислородном пламени дает хорошие результаты по синтезу однослойных графенов. Показано, что при давлении в системе 45-55 Торр наблюдается преимущественное образование однослойных графенов. Показано, что в бензол-кислородном пламени при экспозиции 0,5-1 мин без наложения электрического потенциала на никелевой подложке формируются преимущественно однослойные графены с минимальной дефектностью. Установлено, что при отрицательном потенциале на никелевой подложке наблюдается образование бездефектных однослойных графенов.*