Разработка процессов формирования излучающих структур в ИК- и видимом диапазоне с квантовыми точками полупроводников A3B5 IV группы в SiO2 и Si
Full Name of the work head: Габдуллин М.Т.
Исполнители проекта: Исмайлова Г.А.*
: Национальная нанотехнологическая лаборатория открытого типа при КазНУ им. аль-Фараби
Inventory number: 0214РК01358
Registration number: 0112РК02474
Keywords: Нанокристаллы полупроводников*ионная имплантация*кремний*диоксид кремния*Фотолюминесценция*светодиодные структуры*
Проведено комплексное исследование структурных и оптических свойств систем нанокристаллов в кристаллическом кремнии и в слоях диоксида кремния полученных методом ионной имплантации и последующей термообработки. Разработаны режимы высокодозной имплантации в кремниевые подложки и структуры SiO[2]/Si "кластерообразующих" примесей. Разработан процесс создания стабильных композитных слоев кремния и оксида кремния с нанокристаллами полупроводников IV группы Периодической системы элементов и соединений АВ методом ионной имплантации и термообработок для светодиодных структур, излучающих в видимом и ближнем инфракрасном диапазоне. Изготовлено 9 партий экспериментальных образцов, содержащих "кластерообразующие" примеси. Проведен анализ спектров ФЛ образцов кремния и диоксида кремния, содержащих нанокристаллические включения. Установлено, что с увеличением дозы имплантации олова и температуры термообработок интенсивность фотолюминесценции существенно возрастает. Проведено исследование спектральных характеристик электролюминесценции тестовых светоизлучающих структур, изготовленных из образцов SiO[2]/Si с нанокристаллами, полученными в результате имплантации в слой диоксида кремния ионов Sn. Эти образцы характеризовались интенсивным свечением, видным невооруженным глазом при освещении фиолетовым или синим лазером.*