Исследованы тонкие пленки криоматриц, содержащие нанообъекты, образованные в процессе соконденсации из газовой фазы на подложке при низких температурах. Проведены исследования механизма криоосаждения тонких пленок криоконденсатов п-ксилилена. Температура конденсации Тс = 78 К. Изучены термостимулированные релаксационные, полимеризационные процессы в криоконденсатах п-ксилилена в интервале температур 78 - 273 К. Исследованы влияния концентрации паров металлов в криоматрице п-ксилелена на термостимулированные релаксационные процессы в двухкомпонентной пленке.*