Создана вакуумная система, удовлетворяющая технологии магнетронного нанесения покрытий различного функционального назначения с давлением остаточных газов не более 10 {-5} Па. Изготовлены магнетронная распылительная система с улучшенными параметрами и источник питания магнетрона. Отличительной особенностью источника питания является уменьшенное время срабатывания дугозащиты (не более 0,5 мкс).*